具体的な業務内容
【パソナキャリア経由での入社実績あり】
高いシェアを誇る製品分野を多数保有する産業機器メーカーにて、主力製品であるCMP装置の次期CMP装置の開発を担って頂きます。
※今後必要となる世の中にない新しいCMP装置の開発を担います。
※CMP装置とは※
主に半導体製造プロセスで使用され、最先端プロセスではウェーハ上の薄膜をナノレべルで平坦化し、洗浄・乾燥を行う装置になります。
【具体的な職務内容】
CMP装置構成は、研磨部・洗浄部・搬送部・液供給系統等からなり、研磨や物理洗浄には電気制御や空圧制御機器などを用いた機構設計。これに伴う研磨剤や薬液を制御する流量制御機器及び耐薬品性を考慮した材料の選定。ウェーハを運搬する搬送機構の設計などCMP装置1台にこれら複数の設計要件が必要で、チームで分担して設計・開発をしています。この開発チームの一員として、新装置の上市に貢献して頂きたいと考えています。また、これら複数の設計要件を達成することで、ご自身の開発・設計スキル向上にも繋がると考えています。
※現状は1人2~3案件持ちながら開発を行っている
【ポジションの魅力】
精密・電子カンパニー装置事業部の主力製品であるCMP装置に於いて、市場動向をもとに数年先を見据えたこれまでにない新たなCMP装置の開発・設計に取り組んでいます。現状は、まだ構想段階でこれから数年かけ具現化していくことになり、ゼロベースから装置開発に携わる絶好のチャンスだと思います。ご自身のアイデアを新装置に取り入れて開発が出来るのも魅力の一つです。また、次期CMP装置の開発には、DX、AI、システム同定などの技術を活用した開発も含まれるので、これらの知識・技術を習得、生かすことも出来ると考えています。
【入社後のキャリアパス】
配属後3年程度はチームの一員として、CMP装置の研磨・洗浄・搬送等の開発・設計業務を一通り担当してもらい、その1-2年後にはリーダークラスを担い、のちに管理職に必要なスキルを身につけ、開発業務及び後進を牽引する役割を期待していますが、資質や希望に合わせて他部門(量産設計部門、生産部門、海外拠点赴任等)へのローテーションすることも可能です。また、客先のニーズ、要件を確認するために、直接国内外の客先を出張・訪問することもあります。現在のCMP装置開発部門の…
募集条件
雇用形態 | 正社員 |
---|---|
求める人物像 |
【必須要件】 ■機械設計の業務経験 ※搬送・工作機械・自動機(産業機器系)・自動車(駆動系の設計)などを経験されている方最優遇 【歓迎要件】 ▼半導体製造装置設計経験者 (前工程半導体製造装置設計経験者尚歓迎) ▼3DCAD経験者(ICAD経験者尚歓迎) |
勤務地 |
神奈川県藤沢市 |
給与・待遇・福利厚生 |
経験・スキルに応じて変動します |
休日・休暇 |
完全週休二日(土日) |
企業情報
業種 | メーカー(機械) メーカー(半導体・電気・電子部品) 環境・リサイクル関連 |
---|---|
本社所在地 | 東京都大田区羽田旭町11−1 |
設立 | 1920年5月20日 |
従業員数 |
1000人以上 |
売上高 | 251,520,000,000円 |
URL | http://www.ebara.co.jp/ |
人材紹介会社情報
この求人は紹介求人です。姉妹サイトイーキャリアFAへの応募になります
人材紹介会社名 | 株式会社パソナ ハイキャリア転職支援 |
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厚生労働大臣許可番号 | 13-ユ-010444 |
紹介事業事業所・拠点 | ■東京本社 東京都港区南青山3-1-30 PASONA SQUARE ■大阪支店 大阪府大阪市北区梅田1丁目13-1 大阪梅田ツインタワーズ・サウス 24F ■名駅支店 愛知県名古屋市中村区名駅1-1-4 JRセントラルタワーズ46階 |
URL | https://www.pasonacareer.jp/ |
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